Descrição do produto
Esta série de alvos de platina é fabricada com matérias-primas de platina de ultra{0}}alta-pureza e está disponível em tamanhos circulares, retangulares, irregulares e personalizados. Os produtos são adequados para pulverização catódica de corrente contínua (CC) e compatíveis com os principais equipamentos de pulverização catódica de magnetron, proporcionando excelente uniformidade de filme e adesão estável, atendendo assim aos rigorosos requisitos de pureza e confiabilidade de filme na fabricação avançada.
Características
- Classe convencional de alta pureza, disponível em especificações de pureza-alta
- Alto acabamento superficial com rigoroso controle de tolerância dimensional
- O componente backplane ligado está disponível
- Compatível com várias câmaras de pulverização catódica padrão de magnetron
- Estrutura de tecido uniforme e de alta densidade, defeitos de pulverização catódica reduzidos e partículas em suspensão
- Apresenta excelente estabilidade química com alta resistência à oxidação e corrosão
- A pulverização catódica DC exibe desempenho estável e formação de filme uniforme
Aplicativo
- Eletrodos de circuito integrado semicondutores, camadas de barreira e filmes de fiação
- Dispositivos optoeletrônicos, filmes refletivos ópticos, revestimentos de filtros
- Nova energia: células de combustível, células solares com camadas catalíticas-baseadas em platina
- Sensores automotivos, dispositivos catalíticos de tratamento de gases de escape
- Dispositivos médicos implantáveis, filmes biocompatíveis e resistentes-à corrosão
- Pesquisa-de laboratório de ponta, revestimento para instrumentos de precisão
Atendimento Personalizado
Para dimensões personalizadas, espessura, pureza ou especificações técnicas, não hesite em contactar-nos. Podemos fornecer soluções de materiais personalizadas com base em seu equipamento de pulverização catódica, requisitos de revestimento e especificações dimensionais.
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